【武漢純水設(shè)備】電子行業(yè)電阻率≥18MΩ·cm超純水設(shè)備

電子行業(yè)對超純水的水質(zhì)要求極為嚴苛，尤其是電阻率需達到≥18MΩ·cm（25℃），同時需控制總有機碳（TOC）、顆粒物、微生物等指標。

一、水質(zhì)標準

1、電阻率：≥18MΩ·cm（25℃），高標準需達到18.25MΩ·cm（如芯片清洗）。

2、TOC：通常要求<5ppb。

3、顆粒物：≤0.1個/ml（粒徑≥0.1μm）。

4、微生物：≤1CFU/mL。

二、工藝流程

1. 原水處理：去除懸浮物、余氯及大顆粒，常用石英砂、活性炭過濾器和軟化器。

2、保安過濾器：5μm濾芯保護后續(xù)RO膜。

3、雙級反滲透（RO）：去除95%以上的離子、膠體及有機物，延長EDI壽命。一級RO出水電阻率約0.05-1MΩ·cm，二級RO提升至5-15MΩ·cm。

4、 EDI膜堆：通過電場驅(qū)動離子遷移，結(jié)合離子交換樹脂連續(xù)脫鹽，無需化學再生。將電阻率提升至5-16MΩ·cm，顯著降低TOC和顆粒物。

5、拋光混床樹脂：核子級樹脂，去除殘余離子及弱電解質(zhì)，最終電阻率≥18MΩ·cm。

6、紫外線殺菌：破壞微生物DNA，降低TOC。

7、精密過濾：0.22μm濾芯攔截微粒，確保水質(zhì)穩(wěn)定性。

電子行業(yè)超純水設(shè)備需以“預處理+雙級RO+EDI+拋光樹脂”為核心工藝，確保電阻率≥18MΩ·cm。實際應用中需根據(jù)企業(yè)需求定制方案，并關(guān)注環(huán)保與成本優(yōu)化。武漢反滲透純水設(shè)備武漢EDI超純水處理設(shè)備 武漢工業(yè)純水設(shè)備 武漢實驗室超純水設(shè)備 武漢醫(yī)藥純化水設(shè)備